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        晶圆蚀刻机

         

        项目

        基本参数

        设备名称

        晶圆腐蚀机、酸液/碱液湿法工作台、晶圆蚀刻台

        设备用途

        主要用于硅片/晶片的腐蚀清洗  、晶圆工件的旋干;

        操作模式

        PLC编程控制+人机界面+全自动/手动模式;

        设备构成

        设备由防腐塑料、电气系统及蚀刻槽体 、清洗槽等槽体、管路部分、海外标准件等构成 ;

        设备参数

        ◎ 全面防腐管理措施,苛刻的工艺保证了设备的密封性和安全性;
        ◎ 手动清洗流程或(可采用自动化清洗流程);
        ◎ 操作区设计蚀刻槽体及QDR槽体、清洗槽体等DI/N2 Sprat Gun;
        ◎ 手动加液,可选的自动供液、补液系统;
        ◎ 可选择设计净化过滤单元,减少有害气体的侵蚀;
        ◎ 工装部件均采用国外PFA/PTFE/PP材质;
        ◎ 清洗工件尺寸:2-8inch硅片/晶片; 

        ◎ 可选装SPinner等旋干仪器 ; 
        ◎根据客户定制需求不同,定制的湿法清洗流程方案;

        上一页:去胶剥离清洗机
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